Diferencia entre el polvo de pulido PWA y el polvo de pulido WA
Tanto el polvo de pulido PWA (óxido de aluminio calcinado en forma de placa) como el polvo de pulido WA (óxido de aluminio fundido blanco) son excelentes polvos de pulido. Como fabricantes profesionales de polvo de pulido de alúmina, explicamos las diferencias detalladamente a continuación:
Artículo |
Polvo de pulido PWA |
Polvo de pulido WA |
| Forma y apariencia | Cristal en forma de placa (forma de plaqueta o forma tabulada) | Irregular, multifacético, fragmentado, con borde afilado. |
| Índice principal | Pureza de Al2O3 mínima del 99%, con la fase α-Al2O3 como fase cristalina principal, dureza de Mohs cercana a 9,0. | Pureza mínima de Al2O3 del 99 % con alto contenido de fase α-Al2O3, dureza Mohs 9,0 |
| Función de pulido | Basándose en un rectificado eficaz, las partículas planas de PWA actúan sobre la superficie de la pieza de trabajo de manera deslizante y planar, evitando arañazos por pulido. | Las partículas WA graban la superficie del sustrato, lo que genera una gran fuerza de pulido y una alta tasa de eliminación. |
| Método de fabricación | El polvo de alúmina con aditivos se calcina en un horno rotatorio a 1300 °C para producir un material en forma de cristales laminares. Posteriormente, se muele, se lava, se precipita y se clasifica. | El polvo de alúmina se funde y refina en un horno de arco eléctrico de alta temperatura a 2200 ℃, luego se enfría, se tritura y posteriormente se muele, se lava, se precipita y se clasifica. |
| Tamaño de partícula | El espesor del polvo de pulido PWA es fijo y el diámetro varía de 3 a 50 μm. | Hay disponible una amplia gama de tamaños de partículas, desde 1 µm hasta 63 µm, para proporcionar tamaños de partículas estándar. |
| Solicitud |
1. Industria electrónica: rectificado y pulido de obleas de silicio monocristalino semiconductoras, adelgazamiento CMP de obleas de silicio, cristales de cuarzo piezoeléctricos y semiconductores compuestos (arseniuro de galio, fosfuro de indio).2. Industria del vidrio: Molienda y procesamiento de cristales, vidrios de cuarzo, carcasas de vidrio de tubos de rayos catódicos, vidrios ópticos, sustratos de vidrio para pantallas de cristal líquido (LCD) y cristales de cuarzo piezoeléctricos.3. Industria de recubrimientos: Rellenos para recubrimientos especiales y pulverización de plasma.4. Industria de procesamiento de metales y cerámica: Materiales cerámicos de precisión, materias primas cerámicas sinterizadas, recubrimientos de alta temperatura, etc. |
1. Rellenos resistentes al desgaste: Rellenos resistentes al desgaste para esmaltes cerámicos, capas de desgaste de pisos de madera, revestimientos resistentes al desgaste, adhesivos resistentes al desgaste, resinas de poliuretano, vidrio plástico, pastillas de freno compuestas, etc.2. Abrasivos: Abrasivos para materiales como carburo cementado, metales no ferrosos, acero inoxidable, productos de aleación y vidrio sódico-cálcico.3. Materias primas para muelas abrasivas: Abrasivos principales para piedras de aceite, papel de lija, cera de pulido, muelas de caucho y fluidos de pulido, y materiales auxiliares para discos de pulido en seco de diamante.4. Cerámica: Películas cerámicas, placas cerámicas aislantes, cerámicas de nido de abeja, etc. |
| Equipo aplicable | Equipos de pulido de doble cara y pulido de superficies | Equipos de pulido de doble cara, rectificado de superficies, microgranallado y arenado |
| Impacto en los equipos de rectificado y pulido | La estructura de plaquetas tiene una superficie lisa, lo que resulta en un bajo desgaste del equipo. | La alta dureza y las estructuras con múltiples ángulos afilados provocan un alto desgaste en el equipo. |
